半导体晶圆厚度和精密台阶高度分析
Micro Precision 采用最先进的技术,通过结合经认可的椭圆光度法和表面轮廓分析方法来执行半导体晶片厚度和台阶高度分析。我们位于德克萨斯州理查森的实验室获得了 ANAB 的认可,可以执行ISO/IEC 17025-2017 认可的测量。
晶圆厚度和台阶高度分析是半导体行业中使用的关键组件。

什么是椭偏仪?
VASE® 可变角度光谱椭偏仪具有计算机控制的波长和入射角选择功能。氙气灯提供从紫外线 (UV) 到近红外线 (NIR) 的光。使用双室单色器选择单个波长。从 193nm 到 1700nm 使用堆叠的 Si/InGaAs 探测器。最近开发的扩展 InGaAs 探测器允许测量到 2500nm。 VASE® 使用旋转分析仪椭偏仪 (RAE) 配置,并添加了 JJ Woolam 的专利 AutoRetarder™
经认可的台阶高度分析能力
触笔轮廓仪和表面标准:
触针轮廓仪是用于研究表面形貌的多功能测量工具。轮廓仪依靠带有金刚石或复合材料尖端的小直径金属触针扫描样品表面。在扫描过程中,触控笔与表面直接接触,以获得具有非常高的精度和可重复性的数据。触针轮廓仪台在触针下方线性移动样品以获得表面轮廓的测量值。当它遇到表面特征时,触控笔会垂直移动以测量各种特征。
针式轮廓仪技术的新进展已开发用于缩小几何形状。它们包括一个低惯量传感器,可实现无与伦比的台阶高度可重复性。软件增强和程序调平功能的结合确保以最小的不确定性进行一致的准确测量。
精密台阶高度校准:
测量能力是通过使用表面轮廓系统建立的,该系统与 NIST 参考和可追溯标准一起用于测量整体台阶高度轮廓。
Dektak 3®
具有 6.5″ 样品真空载物台、3″x6″ XY 样品平移、手动载物台、1A 垂直分辨率、131um 最大垂直范围、50um 至 50mm 扫描长度、每次扫描最多 8,000 个点、1mg-40mg 可编程笔力范围的表面轮廓仪。
半导体晶圆和台阶高度能力
ANAB 获得 ISO/IEC 17025-2017 认可能力:
- 半导体晶圆厚度标准
- 半导体精密步进高度
参数/设备 | 范围 | 扩展的测量不确定度 (+/-) | 获得认可 (ISO/IEC 17025, Z540.3) |
---|---|---|---|
晶圆厚度 | (3.0 to 1500)nm | 0.32nm | 椭偏仪和标准晶圆 |
精密台阶高度标准 | (100 到 1000)A (>1 到 250)kA | 17A | 表面轮廓仪和标准步骤 |
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